Der neue Ultrakurzpuls-Laser CEPHEUS 50W

 

PHOTON ENERGY stellt seinen neuen 50 W Pikosekundenlaser CEPHEUS 1050 vor.

Die neue 50W Strahlquelle beruht auf dem bewährten Technologiekonzept und Design der CEPHEUS Laser- Familie. Sie zeichnet sich aus durch Robustheit, Langzeitstabilität und Zuverlässigkeit.

Typisch für den neuen CEPHEUS 1050 sind die hohen Pulsenergien von 300 μJ und wichtige Betriebsmodi, wie Burst-Mode und Einzelschussoption.

Der Laser eignet sich für die Präzisions-Mikromaterialbearbeitung von fast allen Materialien und ermöglicht dank der hohen Durchschnittsleistung einen hohen Durchsatz bei größtmöglicher Präzision.

Typische Anwendungen sind:

• Displayglas-Schneiden
• Gravieren, Schneiden, Bohren

• Großflächiger Materialabtrag (Strukturierung)
• Wafer-Trennen
• Schnelles, korrosionsfreies Dunkelmarkieren von Stahl, eloxiertem Aluminium.

Der CEPHEUS 1050 ist damit ein hervorragendes Werkzeug für die prozesseffiziente Produktion in Branchen wie:

• Mikroelektronik
Medizintechnik
• Halbleiterindustrie

• Automobilindustrie

• Werkzeugindustrie

Der CEPHEUS 1050 ist wassergekühlt und wird mit einem Wasser/Luft oder Wasser/Wasser Wärmetauscher geliefert. Gängige Schnittstellen, mechanische Kompaktheit und geringer Wartungsaufwand gewährleisten eine einfache und kosteneffiziente Integration.

 

Repetition rate Strahlquelle CEPHEUS 1050 / laser source CEPHEUS 1050