PHOTON ENERGY stellt seinen neuen 50 W Pikosekundenlaser CEPHEUS 1050 vor.
Die neue 50W Strahlquelle beruht auf dem bewährten Technologiekonzept und Design der CEPHEUS Laser- Familie. Sie zeichnet sich aus durch Robustheit, Langzeitstabilität und Zuverlässigkeit.
Typisch für den neuen CEPHEUS 1050 sind die hohen Pulsenergien von 300 μJ und wichtige Betriebsmodi, wie Burst-Mode und Einzelschussoption.
Der Laser eignet sich für die Präzisions-Mikromaterialbearbeitung von fast allen Materialien und ermöglicht dank der hohen Durchschnittsleistung einen hohen Durchsatz bei größtmöglicher Präzision.
Typische Anwendungen sind:
• Displayglas-Schneiden
• Gravieren, Schneiden, Bohren
• Großflächiger Materialabtrag (Strukturierung)
• Wafer-Trennen
• Schnelles, korrosionsfreies Dunkelmarkieren von Stahl, eloxiertem Aluminium.
Der CEPHEUS 1050 ist damit ein hervorragendes Werkzeug für die prozesseffiziente Produktion in Branchen wie:
• Mikroelektronik
• Medizintechnik
• Halbleiterindustrie
• Automobilindustrie
• Werkzeugindustrie
Der CEPHEUS 1050 ist wassergekühlt und wird mit einem Wasser/Luft oder Wasser/Wasser Wärmetauscher geliefert. Gängige Schnittstellen, mechanische Kompaktheit und geringer Wartungsaufwand gewährleisten eine einfache und kosteneffiziente Integration.
