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SONSTIGE VERFAHREN UND MATERIALIEN
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Keramiken sind Werkstoffe, die sich besonders durch Ihre hohe Abriebfestigkeit und Härte auszeichnen. Das Bearbeiten dieser Werkstoffe erfordert besonders angepasste Lasersysteme. Die Beschriftung ist mit Lasern hoher Strahlqualität möglich. Die hohe Strahlqualität erlaubt auch Beschriftungen mit einer Schrifthöhe von > 0,5 mm.
Zum Schneiden von Keramiken können ebenfalls Laser mit hoher Ausgangsleistung, verbunden mit einem Galvanometer-Scannersystem, eingesetzt werden. Damit lassen sich beliebige Strukturen aus einer solchen Keramik herauslösen.
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Die Betriebsparameter zum Beschriften von Gläsern hängen vom verwendeten Glastyp ab. Die typischen Fensterglassorten oder auch Bleikristallglas und viele Sorten optischer Gläser lassen sich sehr gut mit dem frequenzverdoppelten Nd: Laser oder mit einem UV-Laser beschriften. Die Beschriftung kann dabei oberflächlich oder auch im Inneren des Glases erzeugt werden. Die Lasersysteme werden dabei von einem Galvanometerscanner abgelenkt und durch eine Planfeldlinse fokusiert.
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Mit dem Präzisionslaser können feine Strukturen mit einer Strukturbreite von ca. 10 µm erzeugt werden. Dies findet Anwendung bei dünnen metallischen Schichten, die gezielt abgetragen werden, so dass sich ein definierter Widerstandswert einstellt.
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  Mit dem Laser erzeugte Mikrostrukturen in einer Widerstandsschicht
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Die LEO Laserserie mit ihren verschiedenen Varianten eignet sich für unterschiedlichste Aufgaben im Bereich der Strukturierung. Die Photon Energy hat sich insbesondere mit den Strukturierungsschritten beschäftigt, die bei der Herstellung von Displays und Solarzellen in Dünnschichttechnologie maßgebend sind.
Eine LEO Strahlquelle auf Basis eines Vanadat Lasers mit 1064 nm ist hervorragend geeignet für die präzise Strukturierung von TCO Schichten.
Die frequenzverdoppelten Varianten der LEO Serie sind besonders geeignet für die selektive Strukturierung der funktionellen Absorberschicht sowie der Metallisierungsschicht.
Die erzeugten Strukturbreiten liegen im Bereich von 15 µ, wobei dies natürlich stark von der verwendeten Optik abhängt.
Die hohe Zuverlässigkeit und die Stabilität der LEO Strahlquellen haben sich speziell in diesem anspruchsvollen Umfeld bewährt.
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