Mikro-Lasermarkierung

Wafer-Mikromarkierung mit einer Schrifthöhe von 40µmIm Bild ist eine Mikro-Laserbeschriftung mit einer Schrifthöhe von 40 µm zu sehen. Das Material ist ein Wafer.

Aufgrund des geringen Wärmeeintrags des ps-Lasers CEPHEUS ist es möglich solch kleine Lasermarkierungen zu erstellen.

Ultrakurzpulslaser dieser Art eigenen sich besonders für Mikromaterialbearbeitung aufgrund dieser Eigenschaft. Man nennt dies auch „kalte Bearbeitung“ oder „kalte Ablation“.

Verwendet wurde für dieses Beispiel eine WORKSTATION mit einem ps-Laser CEPHEUS und Scannerablenkeinheit, gesteuert mit der PHOTONmark Software.

Gold-Mikromarkierung mit einer Schrifthöhe von 500µm & 200µm Lasermarkiersystem WORKSTATION mit ps-Laser CEPHEUS